Trane Technologies i Eaton integrują zasilanie i chłodzenie dla fabryk AI

Trane Technologies i Eaton opracowały zintegrowany projekt referencyjny dla centrów danych o wysokiej gęstości mocy. Połączenie systemów zarządzania ciepłem i energią ma skrócić czas wdrożeń, zwiększyć efektywność energetyczną i ograniczyć koszty infrastruktury AI.

Obie spółki rozwijają rozwiązania średniego napięcia dla tzw. fabryk AI, projektując infrastrukturę elektryczną i cieplną jako jeden system zamiast niezależnych od siebie elementów. Według firm, takie podejście może zwiększyć łączną efektywność energetyczną nawet o 15%, ograniczyć zużycie miedzi nawet o 80% i obniżyć koszty instalacji nawet o 30% w porównaniu z tradycyjnymi rozwiązaniami niskiego napięcia. Ma również uprościć wdrożenia i ułatwić skalowanie infrastruktury.

Zasilanie i chłodzenie projektowane razem

Wspólny projekt jest częścią platform Trane Continuum Rubin DSX i Eaton Beam Rubin DSX, opracowanych zgodnie z architekturą NVIDIA DSX. Rozwiązania mają umożliwiać wcześniejszą wymianę informacji między systemami zasilania i chłodzenia, dzięki czemu infrastruktura może dynamiczniej reagować na zmieniające się obciążenia centrum danych. Architektura została zaprojektowana również z myślą o rozwoju chłodzenia cieczą i systemów wykorzystujących prąd stały. Ma współpracować z NVIDIA Omniverse DSX Blueprint dla centrów danych AI.

„Sztuczna inteligencja i wysokowydajne obliczenia zmieniają wymagania stawiane centrom danych, a klienci oczekują rozwiązań, które nadążą za ich potrzebami. Łącząc nasze zaawansowane rozwiązania z zakresu zarządzania ciepłem z innowacyjnymi rozwiązaniami Eaton w obszarze zarządzania energią, oferujemy spójny projekt, który pomaga klientom przyspieszyć wdrożenia, poprawić efektywność i z większą pewnością planować rozbudowę na przyszłość” – powiedział Mauro J. Atalla, starszy wiceprezes oraz dyrektor ds. technologii i zrównoważonego rozwoju w Trane Technologies.

„W zgodzie z architekturą platformy NVIDIA DSX łączymy nasze systemy zasilania średniego napięcia i rozwiązania do zarządzania ciepłem w strefie IT (white space) z zaawansowaną architekturą systemów zarządzania ciepłem Trane, aby przyspieszyć wdrażanie fabryk AI na dużą skalę” – dodał Michael Regelski, starszy wiceprezes i dyrektor ds. technologii w Sektorze Elektrycznym firmy Eaton.

Infrastruktura dla rosnącej mocy obliczeniowej

Partnerzy wskazują, że potrzeba integracji zasilania i chłodzenia będzie rosła wraz z rozwojem infrastruktury AI. Według przywoływanych przez firmy prognoz McKinsey, globalna moc zainstalowana centrów danych może do 2030 roku niemal się potroić, a około 70% tego wzrostu ma być związane z AI.

„Fabryki AI wymagają ściśle skoordynowanej infrastruktury zasilania, chłodzenia i systemów obliczeniowych, aby działać efektywnie w dużej skali. Dzięki zgodności z NVIDIA Omniverse DSX Blueprint Trane Technologies i Eaton pomagają klientom ograniczyć złożoność oraz przyspieszyć wdrażanie centrów danych AI nowej generacji” – podsumował Vladimir Troy, wiceprezes ds. infrastruktury AI w NVIDIA.